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金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

钛合金pvd镀膜与您分享

5.全封闭非平衡磁控溅射 通过全封闭非平衡电磁场的作用，极大地提高真空室内的离化率以及沉积速率，增强膜基结合力和薄膜沉积的均匀性。

6.脉冲高能窄峰直流溅射 提高瞬间的轰击能量和溅射靶材的离化率(高至50%~60%)，接近电弧的离化率。通过电磁场的作用可以大大增加沉积离子的能量，从而改善膜层的结合力和致密性。

7.阳极层离子源辅助沉积 提高轰击清洗的质量，特别是可以实现对非导体的镀前清洗，镀膜时辅助沉积，提高沉积粒子的能量，改善膜层的结合力。

8.纳米复合多层膜 纳米沉积技术，是涂层结构未来的发展方向，通过纳米级厚度的不同成份沉积层复合结构膜，实现涂层性能的极大增强。

9.装饰性双色间镀 单一的颜色PVD涂层已满足不了市场的需求，进而提出双色间镀的要求，这是装饰涂层的发展方向，双色间镀的质量成为代表PVD加工企业的生产技术水平标志。

10.高能脉冲叠加直流偏压 减少工件的打火，增加沉积离子能量，增强膜基结合力，提高沉积速率。

11.超低温捕集泵 通过低温冷凝效应，迅速捕集真空系统内的残余气体，特别是水蒸汽，大大缩短抽真空的时间，获得洁净的真空环境。

12.分子泵及深冷泵 绿色环保，大大降低能耗，真空系统抽速稳定，镀膜工艺，重现性好。深冷泵还可以抽排低饱和蒸汽压等难抽气体，保证真空系统的洁净度。

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钛合金pvd镀膜与您分享PVD真空镀膜技术是在原来的水平之上，进行一些材料生成的这种技术，应用的过程中可以通过对手机壳内壁，做一些防护层，这样就能够更好的减少电磁波的辐射，进而减少对人们身体所造成的危害。如今技术方面得到了更多的进步，在应用的过程中，能够有更好的附着力，而且高温也可以化，所以使用的效果也都非常的好。

在手机上应用PVD真空镀膜技术，已经对手机行业的发展有了更多的促进，目前来看，一些有电磁辐射的产品，我们都可以采用这种技术，然后进一步的对产品进行优化，真正的去保障人类的健康，在应用的过程中也能够更好的保护环境，起到更好的作用，这才是我们大家所想要的。

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钛合金pvd镀膜与您分享电子束蒸发

电子束蒸发是将镀膜材料放入水冷铜坩埚中，用高能密度的电子束轰击镀膜材料而使其蒸发的一种方法。蒸发源由电子发射源、电子加速电源、坩埚(通常是铜坩埚)磁场线圈、冷却水套等组成。在该装置中，被加热的物质放置于水冷的坩埚中，电子束只轰击其中很少的一部分物质，其余的大部分物质在坩埚的冷却作用下一直处于很低的温度，可以看作被击部分的坩埚。因此，电子束加热蒸发的方法可以避免镀膜材料和蒸发源材料之间的污染。

电子束蒸发源的结构形式可以分为直式(布尔斯)、环形(电偏转)和e形(磁偏转)3种。在一个蒸发装置内可以安置一个或者多个坩埚，这可以同时或者分别蒸发沉积多种不同物质。电子束蒸发源有下述优点:

1、电子束轰击蒸发源的束流密度高，能获得远比电阻加热源更大的能量密度，可以蒸发高熔点材料，如w，Mo，A1203等:

2、镀膜材料置于水冷铜坩埚中，可以避免发源 材料的蒸发，以及两者之间的反应;

3、热量可以直接加到镀膜材料的表面，使得热，热传导和热辐射的损失少.电子束加热蒸发方式的缺点是电子发出的一次电子和镀膜材料表面发出的二次电子会使蒸发原子和残余气体分子电离，这有时候会影响膜层质量。

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钛合金pvd镀膜与您分享PVD真空离子镀膜与传统电镀之间的不同

真空镀膜厚度属于微米级，1μm 相当于传统电镀一条的十分之一，因此经过镀膜作业以后，并不会影响工件的精度；传统电镀的批覆方式是以一种包覆的方式在外形成一层电镀层，并无高度密著性可言。

一般湿式镀层所作之镀膜会在表面覆盖成一个薄膜层 ，不论底材之原先形状为何，表面所呈现出来的薄膜层都会趋于平坦。PVD 镀层会依底材形状平均在上方形成一个镀膜层，依底材高低形状有所不同，经镀膜后的高低形状也是依照原先底材之态样。