按其催化作用增长的次序由小到大地排列则如下:因科镍合金、奥氏体不锈钢、镍、钢、铝、铜、青铜、黄铜、银。以活性炭与氟为原料经氟化反应制备。在装有活性炭的反应炉中,缓缓通入高浓氟气,并通过加热器加热、供氟速率和反应炉冷却控制反应温度。四氟化碳是目前微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体,其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。
高纯四氟化碳在常温常压条件下化学性质稳定,高纯四氟化碳是一种高纯电子气体,在电子产业中需求量大。电子四氟化碳是目前半导体行业主要的等离子体蚀刻气体之一,在硅、二氧化硅、金属硅化物以及某些金属的蚀刻,以及低温制冷、电子器件表面清洗等方面被广泛应用。而电子特气系统为它保驾护航,保证四氟化碳(CF4)的纯度和安全稳定使用。随着手机、相机、太阳能电池等消费电子产品的需求量不断攀升,高纯度四氟化碳将成为四氟化碳行业的主要增长动力。
四氟化碳(CF4)早就是通过氟碳直接反应法制得的,该方法经过不断的发展与完善, 如今已成为工业上制备全的主要的方法之一。四氟化碳用作低温制冷剂及集成电路的等离子干法蚀刻技术。生成气体通过液氮冷却的镍制捕集器冷凝,然后慢慢地气化后,随后通过硅胶干燥塔得到产品。在填有氢氧化铬的高温镍管中进行,反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体,再通过冷冻,用硅胶除去气体中的水分,后经精馏而得成品。
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