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另外，当湿度过高时，粘在硅芯片表面的灰尘会被化学吸附在表面，难以清理。相对湿度越高，去除附着越困难。而当相对湿度低于30％时，由于静电力的作用，颗粒容易吸附在表面，大量半导体器件容易击穿。

净化工程压力调节

对于大多数洁净空间来说，要保持内压（静压）高于外压（静压），以防止外部污染的侵入。压差一般应按照以下原则维持:

这是对乱流洁净室的比紊流、更地描述。湍流度主要由雷诺数决定，即流的量决定。然而，如果使用的过滤器作为自上而下的空气供应，所有这些结果的可以产生即使在非常低的流量，因为它是一个突然和不均匀的流动。因此，在这种情况下，不仅存在紊流引起的流层之间的混合，整个腔室内还存在较大的回流和涡流混合。

净化工程-单向流动洁净室原理

那么如果你采用一个有效或有效的方式的话，我觉得这个结果是很容易实现。把整个空间范围之内的污染物去排除掉，这也是一个主要。

除此之外净化工程还应该挑战一下这个温度，以及噪音等一些无形的污染，这些都行，都是要完成的工作。净化在一定的程度之内，把空气里面的微粒子有害的细菌气体全部都给清除掉，并且把空气压力的速度都控制在某一个范围之内的工程学科。