底片尺寸的稳定性随环境的温度和贮存时间而变化。所以,底片的生产、贮存和使用采用恒温的环境,采用厚底片也能提高照相底片的尺寸稳定性。
除此以外,曝光机的真空系统和真空曝光框架材料的选择,也影响曝光成像的质量。
定位方法是:首先将正、便能得到同时钻出元件孔和定位孔的数据带或数据盘,一次性钻出元件孔及定位孔,在孔金属化后预镀铜,便可用双圆孔脱销定位曝光。原文链接:http://www.0515.org/chanpin/show-44087.html,转载和复制请保留此链接。
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