磁控溅射一般分为二种:直流溅射和射频溅射,其中直流溅射设备原理简单,在溅射金属时,其速率也快。
而射频溅射的使用范围更为广泛,除可溅射导电材料外,也可溅射非导电的材料,同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。溅射靶材射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射,目前常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。
弥散强化复合材料:在及其合金基体中,以弥散分布的化学和热力学稳定的高熔点或高硬度氧化物、碳化物,或具有特殊性能的微粒作为强化相的复合材料。贵金属复合材料属金属基复合材料,具有与贵金属相似的特性,如导电、导热性好,、抗腐蚀等。通常,弥散强化相粉末粒度为0.01~0.1um,含量小于1%(体积分数)。在及其合金基体材料中弥散分布的不可变形的强化相微粒,阻止基体金属的位错运动,限制晶界移动和晶粒长大,使基体金属的再结晶温度、高温强度和抗蠕变性能明显提高;同时,由于强化相的加入量。
熔化光学玻璃的坩埚器皿材料及玻纤工业用漏板材料。为此,采用碱化焙-浸脱硒-酸浸脱铜碲的工艺对该阳极泥进行预处理,有效地实现了硒、碲、铜的清洁分离。在工业上应用的主要有两种弥散强化铂及铂合金。一种是以氧化锆(Zro2%26lt;0.5%(体积分数))弥散强化的铂及铂铑合金,即zGsPt和ZGSPt-RH,20世纪70年代中期由英国江森%26bull;发明,用内氧化法制造。ZGSPt的再结晶温度比纯铂高200℃,高温强度接近PtRhlO合金,在1400℃及5MPa应力作用下其高温断裂寿命是纯铂的100余倍。
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